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电子纯水、超纯水的几种制备工艺说明

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宣布时间：2024-12-23 16:29

电子工业尤其是半导体工业的迅猛生长，，，，对纯水的水质要求也一直提高，，，，对水中阴离子含量、阳离子含量、颗粒数、有机物、细菌等逐步有了定量的指标的限制。。。。。。以下为近年来海内外报道的几种制水流程。。。。。。

一、某超大规模集成电路生产厂中的纯水系统

该系统由预处置惩罚系统、一次纯水制造系统、二次纯水制造系统及排水接纳等支系统组成。。。。。。

a.预处置惩罚系统。。。。。。凭证原水水质，，，，接纳凝聚加压上浮装置、双层过滤器及二氧化碳脱气塔组成。。。。。。原水中的悬浮物及部分消融的有机物经凝聚后，，，，因密度小而难于沉降，，，，接纳加压上浮处置惩罚可有用去除，，，，后置的双层过滤器可截留上浮装置中流出的微细凝聚体，，，，以使原水进一步澄清，，，，通过二氧化碳脱气塔除去重碳酸根因素以避免后置RO浓水侧膜面上析出碳酸钙。。。。。。

b.一次纯水系统。。。。。。该系统由三级RO、脱氧装置及离子交流柱组成。。。。。。RO膜接纳低压聚酰胺膜，，，，一级RO主要除去大部分的阴离子、阳离子及有机物；；；；；；；二级RO主要除去剩余的阴离子、阳离子、硅及有机物；；；；；；；三级RO主要除去微量剩余阳离子，，，，提高电阻率。。。。。。

脱氧装置接纳中空纤维膜脱气，，，，可将消融氧除去至要求浓度以下，，，，同时还去除剩余的二氧化碳，，，，减轻了后置交流柱的负荷，，，，以减小离子交流树脂的替换频率。。。。。。

离子交流柱可将RO处置惩罚水中残留的少少量的离子、重金属、硅、消融的二氧化碳去除。。。。。。该交流柱为非再生式，，，，目的是再生时剩余的Cl、OH-影响处置惩罚水水质，，，，按正�；；；；；；＝幽陕�80%盘算，，，，交流树脂约莫每六个月替换一次。。。。。。

c.二次纯水系统。。。。。。该系统由换热器、紫外线氧化器、抛光器和超滤系统等组成。。。。。。紫外线氧化器接纳低压185nm的紫外灯，，，，剖析剩余在一次纯水处置惩罚水中的少少量TOC因素。。。。。。尤其适用于剖析在RO膜中去除率较低的低相对分子质量有机物。。。。。。

抛光器接纳低溶出式均球树脂，，，，除去前置紫外线氧化器剖析TOC爆发的有机物和CO2，，，，同时除去一次纯水中保存的极微量离子、硅、重金属等，，，，使电阻率稳固在较高水平。。。。。。超滤系统最后除去超纯水装置最后的离子因素，，，，以知足工艺要求。。。。。。该系统的膜组件接纳自己不爆发离子的外压式超滤膜。。。。。。

d.排水接纳系统。。。。。。该系统由活性炭过滤器及阴离子交流器组成。。。。。。由于接纳水中含有H2O2、SO42-、F-、Cl-、NH4+等，，，，用活性炭吸附去除H2O2；；；；；；；用阴离子交流器去除SO42-、F-、Cl-，，，，NH4+待后置RO去除。。。。。。

二、兆位级的新高纯水制造系统

该系统的电阻率、消融氧和SiO2等指标基本知足要求，，，，但对TOC、微粒数及细菌数等必需接纳响应的步伐举行处置惩罚才华获得包管。。。。。。它在制水工艺上具有以下特点。。。。。。

a.原水接纳微絮凝过滤，，，，即进水管上投加PAC举行凝聚，，，，然后用石英砂和无烟煤举行双层过滤。。。。。。

b.活性炭过滤放在强酸阳床和脱气塔之后，，，，由于进水pH值呈酸性，，，，这样既可避免微生物滋生，，，，又能抵达去除有机物的效果。。。。。。

c.反渗透装置设置在离子交流之后，，，，这样可避免膜污染和膜结垢所爆发的对反渗透组件的梗塞征象，，，，特殊对SiO2含量较大的原水更为有用。。。。。。

d.接纳两次脱气，，，，第二次为真空脱气，，，，可去除水中消融氧和挥发性TOC。。。。。。

e.接纳两级紫外线杀菌，，，，后级是为避免反渗透抛光(FRO)装置膜面上爆发细菌。。。。。。

f.接纳反渗透装置(FRO抛光)替换通例的凌驾滤，，，，在FRO中由于使用合成复合膜，，，，以是TOC去除率极高。。。。。。

三、某16M原位器件生产的典范高纯水系统

该系统由高纯水精制循环系统及高纯水增补水辖档徒部分组成。。。。。。

该系统在制水工艺中具有以下特点：

a.活性炭过滤后投加氯气（2~4mg/L），，，，使水在进入反渗透前只管镌汰细菌生长。。。。。。

b.反渗透装置，，，，前级接纳醋酸纤维素膜，，，，后级接纳聚酰胺膜，，，，两种膜组合使用，，，，可取长补短。。。。。。

c.后级反渗透浓水可回至前级反渗透前重复使用，，，，提高水的回用率。。。。。。

d.高纯水贮水箱除充氮�；；；；；；；ね�，，，，尚需投加0.2mg/L由纯氧制成的臭氧，，，，以防细菌滋生。。。。。。

e.使用254nm紫外灯杀菌，，，，并去除水中剩余臭氧，，，，混床后再使用185nm紫外灯，，，，用相当于6~8倍正常滞留时间，，，，进一步降低TOC。。。。。。

f.混床后投加臭氧（0.08~0.1mg/L），，，，以进一步降低TOC。。。。。。

g.接纳催化除氧系统（CORS），，，，亦可接纳两级真空脱气装置除去水中消融氧。。。。。。

h.用反渗透取代超滤，，，，以包管将水中微粒、有机物及悬浮物净化至最低水平，，，，反渗透选用截留相对分子质量为100的复合膜，，，，截留率为90%。。。。。。自初级处置惩罚系统反渗透装置以后的系统管材，，，，宜用聚偏二氟乙烯管(PVDF)，，，，但反渗透高压管应接纳不锈钢管件用高纯水精制系统，，，，可不思量除氧，，，，并可应用截留相对分子质量1000~100000的超滤装置作最终处置惩罚，，，，而不需用反渗透装置。。。。。。

信息泉源：水处置惩罚搬运工

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